申请号：CN201410756196.7

申请日：2014-12-11

公开日：2017-01-18

授权日：2017-01-18

公开(公告)号：CN104371102B

标题：一种负性光敏聚酰亚胺及其制备方法

摘要：本发明设计一种高分子材料及其制备方法，具体为负性光敏聚酰亚胺及其制备方法。以含有羰基的四羧酸二酐和二胺作为主要原料进行聚合，并以对氨基苯甲酸进行封端，得到分子端部和侧链上含有羧基基团的聚酰胺酸溶液，再对聚酰胺酸大分子中的羧基进行酰氯化，所得产物与含有光敏基团的酚或醇进行反应，经化学亚胺化后得到具有高感光性能的负性光敏聚酰亚胺。该负性光敏聚酰亚胺具有高光敏性，良好的耐热性，在航空航天，微电子等领域有着广泛的应用前景。

IPC分类号：C08G73/10 | G03F7/038

发明人：肖继君 | 周萌萌 | 马玲玲 | 杜晶 | 曹飞

联系方式：0311-81668176